Laboratorium Fizykochemii Materiałów

O Grupie

Nasze badania skupione są wokół aplikacji metod mikroskopii sił atomowych do badań własności nanomechanicznych nano i mikro-obiektów takich jak pojedyczne cząsteczki białek, a także modyfikacji właściwości fizyko-chemicznych powierzchni materiałów 2D takich jak MoS2 w nano- i mikro-skali. Do naszych badań używamy również innych współczesnych metod badania materiałów w skalach lokalnych, a tu między innymi metod nanolitograficznych, metod mikroskopii elektronowej (SEM, TEM), metod analizy składu chemicznego takich jak spektroskopia dyspersji elektronów (ang. energy-dispersive X-ray spectroscopy, EDS), lokalna spektroskopia Ramanowska, i innych. Członkowie zespołu są pracownikami Wydziału Chemii Uniwersytetu Warszawskiego.

Link do strony Grupy: https://szoszlab.ckc.uw.edu.pl/

Działalność badawcza

Mikroskopia sił atomowych w modach niekontaktowych i kontaktowych dla bardzo szerokiego spektrum materiałów począwszy od giętkich, miękkich i elastycznych materiałów biologicznych jak pojedyncze cząsteczki DNA, RNA, błony komórkowe i ich substytuty, warstwy i filmy białkowe, a skończywszy na typowych materiałach inżynierskich.

Oferta

mikroskopia sił atomowych w modach niekontaktowych i kontaktowych dla bardzo szerokiego spektrum materiałów począwszy od giętkich, miękkich i elastycznych materiałów biologicznych jak pojedyncze cząsteczki DNA, RNA, błony komórkowe i ich substytuty, warstwy i filmy białkowe, a skończywszy na typowych materiałach inżynierskich.

Kierownik zespołu:

prof. dr hab. Robert Szoszkiewicz

Doktorat, 2003, Szwajcarska Politechnika Rządowa w Lozannie (EPFL). Staże podoktorskie w Georgia Institute of Technology, USA (2004-2006) i Columbia University, USA (2007-2008). Tenurowany profesor Kansas State University (2014). W CNBCh od roku 2017. Fizykochemik materiałowy, główny twórca metody nanolitografii ciepłem (ang. Thermochemical nanolithography); posiada doświadczenie w badaniach właściwości nanomechanicznych pojedynczych obiektów biologicznych takich jak białka; zajmował się i zajmuje charakterystyką fizyko-chemiczna arbitralnych powierzchni głównie metodami mikroskopii sił atomowych, badaniami fizyko-chemii (tarcie, lepkość) pojedynczych warstw wodnych w mikro- i nano – skalach, i wreszcie badaniami adhezji, tarcia i ścierania materiałów inżynierskich w mikro- i nano- skalach. Obecnie, na Wydziale Chemii UW, w CNBCh zajmuje się badaniami powierzchni w mikro- i makro-skali wybranych materiałów 2D, takich jak MoS2, dla przyszłych zastosowań w branżach elektronicznych i energetycznych; a także badaniami nanomechanicznymi cienkich warstw peptydowych.

“TCNL jest techniką litograficzną opartą na mikroskopii sił atomowych i zdolną do modyfikacji chemii i topografii dowolnej próbki. Istotną tej metody jest wywołanie reakcji chemicznej na powierzchni badanej próbki poprzez lokalne ogrzanie tej próbki do temperatur rzędu kilkuset stopni Celsjusza i z rozdzielczością dziesiątek nanometrów i mniejszą. Metoda TCNL została pierwotnie opracowana do lokalnych zmian hydrofobowości wybranych materiałów polimerowych, ale później metoda ta została również wykorzystana do tworzenia przewodzących nano-drutów na powierzchniach tlenku grafenu wskutek jego redukcji termicznej. W moim laboratorium w CNBCh zamierzam rozszerzyć zastosowania metody TCNL na lokalne, indukowane ciepłem chemiczne modyfikacje cienkich kryształów MoS2, w celu dostarczenia zrozumienia procesów utleniania i powstawania termicznie indukowanych defektów w strukturze powierzchniowej tych kryształów.”